某半导体器件制造技术工业企业因晶圆除污工步引发含氨焦化废水，水流量200吨/天。焦化废水面除氧化还原电位外还富含氟化物和进样器天价属，处里难易大。本省尾气排放符合要求符合要求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水含量及的来源 晶圆刷洗废液（主要是从何而来）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程生活污水：含少量铜、镍等高价属，pH值冲击大 CMP打磨化工废水：含硅粒子及氟化物 补救制作工艺方案 采取"化学工业悠长岁月中+膜分离法+折点氯化"三人组合加工： 异常处理 ：加药CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 超滤膜系统的 ：弄掉0.01μm以下悬浮物物 反加入浓缩咖啡 ：将氧化还原电位溶缩至1000mg/L大于 折点氯化 ：高精度掌握氯添加量，将挥发酚变为为N2 阳离子互转 ：切实保障高价属符合标准 结果效用 氧化还原电位动态平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含量的低过监测限 水使用率达75% 厌氧颗粒污泥生产量下降40%